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先进半导体光刻胶配方中的“药引子”—光产酸剂PAG

一款光刻胶时,出现了驻波的现象,调整树脂的结构可以在一定程度解决问题,而博康最后通过使用不同的光酸彻底解决了驻波的现象;博康也曾有一款光刻胶有能量窗口(EL)达不到指标要求,最后通过调整光酸的类型和用量来解决的。

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  光酸的产业化难点

  第一,合成和纯化难

  简单结构的光酸合成和纯化难度低,但是复杂的、高端的光酸合成难度大,纯化比较困难。具体体现在:

  1)简单结构的光酸一步两步就可以合成,而复杂结构的光酸需要5-6步甚至7-8步的合成步骤,步骤越长,每一步可能产生的杂质越多,造成纯化困难,最终的收率也会越低。

  2)对于离子型光酸而言,其和金属离子同属离子态,性质有类似的地方,所以较难分开,这使得去金杂变得十分困难。

  3)纯度的检测也很困难,涉及离子型的化合物难以通过常规手段实现准确检测,比如HPLC或核磁并不能反应化合的真实纯度,这就要求研发机构拥有先进的检测设备。

  第二,生产环境要求高

  光酸的生产对生产环境要求较高,一般需要黄光和洁净的环境,工厂的洁净度需要达到至少万级。

  第三,质量稳定性

  光酸质量的稳定性主要体现在纯度的稳定,对于批量生产的光酸而言,实现金属离子含量小于10ppb相对比较容易,但要使每批光酸里的金属离子含量小于1ppb则十分困难,这是世界上头部企业才拥有的核心技术。因此,国内主要的光刻胶公司大多还是使用进口光酸。

  第四,客户验证

  光酸种类多但单一品类的用量少,在有稳定货源的前提下,客户一般不会冒着风险更换供应商,这就为后入场的企业提高了市场推广的难度。



资料来源  徐州博康




文章名称:先进半导体光刻胶配方中的“药引子”—光产酸剂PAG
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